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产品概览 PRODUCT OVERVIEW

激光共聚焦光电流成像系统

盈波光电激光共聚焦光电流成像系统面向微纳光电子器件、二维材料、半导体晶圆、光伏器件与光电传感器研究,通过激光共聚焦扫描获得样品不同位置的光电流分布、光电流谱及相关光谱信息,帮助分析电荷传输、复合过程与器件工作机制。
产品型号 YB-LPCI系列
所属分类 激光共聚焦光电流成像系统
详细介绍 PRODUCT DETAILS
激光共聚焦光电流成像系统
Confocal Photocurrent Imaging

激光共聚焦光电流成像系统

面向微纳光电子器件、二维材料、半导体晶圆、光伏器件与光电传感器研究,通过激光共聚焦扫描获得样品不同位置的光电流分布、光电流谱及相关光谱信息,帮助分析电荷传输、复合过程与器件工作机制。

光电流 / 光电流谱          Raman / PL 多模式          最大 2000×2000 扫描
激光共聚焦光电流成像系统
190–2100 nm
超连续光源可选,适配宽波段光电流谱测试
2000×2000
最大像素扫描范围,适合二维器件面分布成像
1 μs
最短停留时间,支持快速光电流成像
1 pA–1 A
可选源表测量范围,覆盖弱光电流到器件电流测试
System Architecture

光、谱、电一体化测试平台

系统以共聚焦激光扫描为核心,集成显微镜、快速扫描模块、可调光源/单色激发、光谱仪、可见-近红外探测器、源表、锁相放大器与探针台,可实现位置分辨光电流、光电流谱、Raman、PL 等多参数联测。

可选光源
375 / 405 / 532 / 635 / 808 / 1530 nm 或超连续光源
共聚焦扫描
快速扫描模块,支持二维分布成像
电学采集
源表、锁相放大器与探针台联用
光谱扩展
可扩展 PL、Raman、光电流谱分析
Core Advantages

从光响应分布到器件机理分析

系统可将光斑位置、激发波长、光电流强度与光谱响应进行关联,用于分析材料均匀性、局域缺陷、结区响应、载流子扩散长度和光电转换效率。

01

光电流二维成像

获得器件不同位置的光电流强度图,直观显示光响应热点、弱响应区域和边界效应。

02

光电流谱测试

结合可调谐光源或超连续光源,分析不同波长激发下的器件响应与能带相关特性。

03

多模式联用

可与 Raman、PL、显微光谱、探针台电学测试联动,形成材料-结构-电学综合表征。

04

模块化定制

按光源波段、显微镜接口、探针台尺寸、源表型号、锁相放大器和软件算法定制集成。

Measurement Workflow

从局域激发到电流图像的完整流程

通过显微定位、激光扫描、电学同步采集、二维重建和谱图分析,快速形成器件光响应分布结果。

STEP 01
显微定位
对准电极、结区、沟道或目标微区
STEP 02
激光扫描
点扫描或面扫描获取空间响应
STEP 03
电流采集
源表或锁相放大器同步记录
STEP 04
成像分析
输出光电流图、线剖面和光电流谱
Applications

典型应用领域

二维材料与微纳器件

适用于石墨烯、二硫化钼、异质结、光电探测器、微纳沟道器件的局域光响应研究。

太阳能电池与 OLED

用于光伏器件、OLED、半导体光伏能源器件的无损检测、均匀性分析与失效定位。

半导体晶圆与传感器

用于晶圆级光电响应分布、局域缺陷、结区响应、载流子扩散长度等关键参数分析。

Specifications

主要配置参数

光源超连续光源 190–2100 nm;375 nm、405 nm、532 nm、635 nm、808 nm、1530 nm 等可选
光源引入光纤耦合或自由空间光路
显微镜NA=0.75 / 1.0 / 1.4 可选;长工作距离物镜可选;多个厂家显微镜可适配
快速扫描模块最大像素扫描范围 2000×2000;最短停留时间 1 μs
光谱仪焦长 320 mm / 550 mm 可选,用于 PL、Raman 或光电流谱扩展
探测器可见-近红外探测器可选:CCD、PMT、SPAD
电流源 / 源表Keithley 2400 可选;测量范围 1 pA–1 A
锁相放大器SR830 可选,用于弱信号调制检测
探针台可按样品尺寸、电极形式、温控、真空、光电测试需求定制
Image Gallery

图片展示

二维材料探测器
IMAGE 01

二维材料探测器电流对比

光电流二维成像与一维分布
IMAGE 02

光电流二维成像与一维分布

光电流谱
IMAGE 03

光电流谱

激光共聚焦光电流成像系统
共聚焦扫描 · 光电流成像 · 光电流谱 · Raman / PL 扩展 · 探针台电学联用


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