PRODUCT CENTER

产品展示

Product show

产品概览 PRODUCT OVERVIEW

共聚焦显微成像系统

盈波光电共聚焦显微成像系统面向细胞、组织、透明样品、软性样品、薄膜与微纳结构观察,系统采用模块化共聚焦扫描成像设计,兼顾高横向分辨率、高对比度光学切片、三维重构、大面积拼接与多色荧光成像。
产品型号 YB-CFM系列
所属分类 共聚焦显微成像系统
详细介绍 PRODUCT DETAILS
共聚焦显微成像系统
Confocal Microscopy Imaging System

共聚焦显微成像系统

面向细胞、组织、透明样品、软性样品、薄膜与微纳结构观察,系统采用模块化共聚焦扫描成像设计,兼顾高横向分辨率、高对比度光学切片、三维重构、大面积拼接与多色荧光成像。

最高可达 120 nm 级横向分辨率          405 / 488 / 561 / 640 nm 四色通道         
共聚焦显微成像系统
120 nm
优秀横向分辨率,适合精细结构观察
32 fps
高速型支持 512×512 像素快速成像
4096×4096
最大像素采集,适合高精细图像保存
FN22 mm
大视场观察,便于样品定位与拼接
System Architecture

高速扫描、光学切片、三维重构一体化

系统通过共聚焦针孔与高速扫描模块抑制离焦背景,获得高对比度光学切片;配合 Z 轴扫描和图像叠加,可形成二维、三维及大面积拼接成像结果。

高速扫描模块
适合快速成像、局部区域扫描和动态图像采集
四色荧光通道
405 / 488 / 561 / 640 nm 常用荧光通道
高灵敏探测
APD 单光子探测,PMT 光电倍增管可选
模块化升级
可在已有正置或倒置显微镜基础上升级
普通显微镜与共聚焦显微镜成像对比
Core Advantages

适合科研级显微成像与定量分析

系统兼顾高分辨成像、三维成像、样品无损检测、多通道荧光分析和大面积图像拼接,可面向生命科学、材料科学和工业检测场景扩展。

01

高横向分辨率

相较传统光学显微成像获得更高分辨能力,可用于细胞结构、荧光颗粒和微细纹理观察。

02

高景深三维成像

通过 Z 向扫描获得连续切片,再进行图像叠加和三维重构,提高厚样品空间信息获取能力。

03

非接触无损检测

无需导电处理,可用于粉末、软性样品、透明样品及荧光标记样品的无损观察。

04

多结果输出

支持二维图像、三维重构、大面积拼接、粗糙度、膜厚、荧光强度等多种结果展示。

Imaging Workflow

从宽场定位到共聚焦精细成像

先通过宽场观察快速定位样品区域,再切换共聚焦模式获得高对比度图像;需要厚样品分析时,可进行 Z-stack 扫描并重构三维图像。

STEP 01
宽场观察
快速寻找样品区域与荧光目标
STEP 02
共聚焦扫描
获取高对比度光学切片图像
STEP 03
Z 轴切片
采集连续层析图像并重构三维结构
STEP 04
分析导出
输出二维、三维、拼接和定量结果
Applications

典型应用场景

细胞与组织荧光成像

适用于细胞骨架、细胞核、细胞膜、组织切片及多色荧光标记样品的高对比度观察。

Z-stack 与三维重构

适合厚样品、透明样品和微结构表面形貌分析,输出连续切片与 3D 可视化结果。

材料表面与膜厚分析

用于非接触粗糙度测量、膜厚测量、微区荧光分析和大面积图像拼接。

Specifications

主要配置参数

参数项CF-1000 基础型CF-2000 高速型
扫描速度4–5 fps,512×512 像素32 fps,512×512 像素
最大像素4096×40964096×4096
荧光通道4 色:405 / 488 / 561 / 640 nm4 色:405 / 488 / 561 / 640 nm
探测器APD 单光子探测PMT 光电倍增管,APD 单光子探测器可选
最大视场FN22 mmFN22 mm
宽场成像4 色宽场观察4 色宽场观察
物镜配置4X / 10X / 20X / 40X / 100X,最高 1.4NA4X / 10X / 20X / 40X / 100X,最高 1.4NA
分辨率衍射极限,通常约 200–300 nm,优秀可达 120 nm衍射极限,通常约 200–300 nm,优秀可达 120 nm
升级能力可基于已有正置或倒置显微镜升级支持高速成像、多通道成像与扩展功能集成
Image Gallery

图片展示

共聚焦显微成像系统
线粒体.png
双色细胞微丝.png
共聚焦显微成像系统
高速扫描 · 多色荧光 · 光学切片 · 三维重构 · 大面积拼接 · 模块化升级


上一篇
下一篇