平台定位
在二维材料热转移平台上叠加自动精密微调能力
MP-40AT 适用于希望进一步提升对位精度、减小人为操作波动、改善复杂堆叠重复性的实验室场景。与纯手动平台相比,它在关键的 XY / Z 微调环节引入自动位移结构,使转移过程更细、更稳,也更容易形成标准化实验流程。
自动轴行程
12 mm
样品台与载玻片端 XY / Z 自动位移
定位精度
0.2 μm
更适合精细拾取、贴合与层间对位
位移分辨率
40 nm
支持更细颗粒度的微小步进调节
温控能力
RT–180℃
兼顾热转移与聚合物释放等典型工艺
核心价值
从“能转移”进阶到“更稳定地完成高精度转移”
二维材料转移平台的升级方向,往往不是简单增加功能数量,而是减少操作误差、提升重复性和降低复杂堆叠的失败率。MP-40AT 的关键价值就在于把最敏感的对位环节变成可控、可重复、可细分步进的自动微调动作。
自动 XY / Z 微调
样品台与载玻片端的 XY / Z 轴均为自动结构,减少手动微调带来的波动。
40 nm 级分辨率
适合更精细的拾取位置修正与层间叠放微调。
高配显微观察
金相显微镜配合 800 万 / 4K CCD 与 21 / 27 寸 4K 显示系统。
精密热转移能力
室温至 180℃,温控分辨率 0.001℃,稳定性 ±0.05℃。
关键参数
MP-40AT 平台规格
自动化结构
样品台与载玻片端的双工位自动精密调节
样品台五轴控制
XY 轴自动,12 mm 行程,精度 0.2 μm,分辨率 40 nm;Z 轴自动,12 mm 行程,精度 0.2 μm,分辨率 40 nm;R 轴手动 360° 旋转,微调 ±5°;左右摆角手动 ±5°,精度 0.2°。
载玻片五轴控制
XY 轴自动,12 mm 行程,精度 0.2 μm,分辨率 40 nm;Z 轴自动,12 mm 行程,精度 0.2 μm,分辨率 40 nm;R 轴手动 360° 旋转,微调 ±5°;前后摆角手动 ±5°,精度 0.2°。
整体位移
样品台 / 载玻片整体位移行程 80 × 80 mm,精度 5 μm,用于快速找位与大范围换区操作。
典型应用
更适合对位难度高、重复性要求高的二维材料实验
多层异质结构堆叠
适用于多层石墨烯、TMD、hBN 结构的逐层叠放与界面对位。
精密热释放转移
温控与自动位移配合,适合精密控制贴合与释放过程。
器件前端制备
适合二维材料电子器件、光电器件样品制备与对位工序。
标准化实验流程
适合希望形成更稳定工艺窗口和更一致实验结果的研究团队。
选型建议
什么时候优先选 MP-40AT
对位精度要求更高:需要更细步进和更稳定修正动作时,自动 XY / Z 更有优势。
实验重复性要求更高:适合多人共用平台或需要形成标准化工艺参数的实验室。
异质结构更复杂:在多层堆叠、局部修正、精细贴合场景中更容易发挥优势。
希望从手动平台升级:它适合作为 MP-40P 向更高精度自动化方向的自然升级型号。
总结
面向高精度二维材料堆叠实验的自动化升级平台
MP-40AT 在显微观察、热转移、真空吸附与双五轴结构基础上,引入自动 XY / Z 高精度微调能力,使平台更适合高要求的二维材料对位、堆叠和器件制备场景。对于希望兼顾高可视化、高温控精度与更强重复性的实验室而言,MP-40AT 是更偏高阶研究型的一款二维材料转移平台。

